Перейти к содержанию
SEEK

Магнетронное напыление платиной - поверх меди (или иного металла, если это не получится)

Рекомендуемые сообщения

50 минут назад, khach сказал:

Ионный источник это же вроде только для реактивного напыления, когда второй компонент для синтеза покрытия берется из балластного газа. А ВЧ магнетроном пылят если источник уже с обеими компонентами, та же керамика Si3N4 например или AlN. или когда напыление многослойное и балластный газ надо менять быстро между слоями.

Не знаю, откуда у вас такая информация, но ионными источниками керамические мишени во всю распыляют. А на ВЧ магнетроне запросто делают реактивное напыление.

52 минуты назад, khach сказал:

Возвращаясь к началу темы- а чем имеет смысл покрыть платиновое покрытие для получения электрической изоляции с сохранением гибкости проволоки но не органическими порытиями?

Я напылял оксид кремния, например: на термопарную проволоку. Что бы осаждаемый на неё слой металла не влиял на сигнал с горячего спая. Но если вам требуется какая-то электрическая прочность - то ой. Будет сложно.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
Дата: (изменено)
51 минуту назад, Alleus сказал:

Не знаю, откуда у вас такая информация, но ионными источниками керамические мишени во всю распыляют. А на ВЧ магнетроне запросто делают реактивное напыление.

А, понятно, я не понял какие ионы имеются ввиду. Распыление мишени ионами инертного газа? Так при этом вроде  молекулы с источника материала для напыления слишком "холодные" летят- слой аморфный выходит.

51 минуту назад, Alleus сказал:

Я напылял оксид кремния, например: на термопарную проволоку. Что бы осаждаемый на неё слой металла не влиял на сигнал с горячего спая

Именно это и требуется. Изоляция термопарной проволоки.

Изменено пользователем khach

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
39 минут назад, khach сказал:

Именно это и требуется. Изоляция термопарной проволоки.

В общем, проволока термопарная натягивалась на рамку. Напыление производилось с планарного ВЧ магнетрона. Мишень кремниевая, газ аргон с кислородом. Напылялось несколько сот микрон или около того. Потом рамка переворачивалась и напыляли с другой стороны.

Какая толщина оксида получалась - никто не измерял. Но, на удивление, всё хорошо работало.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
Дата: (изменено)
4 часа назад, khach сказал:

Ионный источник это же вроде только для реактивного напыления, когда второй компонент для синтеза покрытия берется из балластного газа. А ВЧ магнетроном пылят если источник уже с обеими компонентами, та же керамика Si3N4 например или AlN. или когда напыление многослойное и балластный газ надо менять быстро между слоями.

Совершенно не так. Ионный источник распыляет ВСЕ, что попадает ему под луч. И если у вас есть такой источник, с диаметром кольцевого луча 25 мм и током 200 ма при 5 кВ - любые материалы распыляются достаточно быстро. А если газ -аргон - то и процесс не реактивный. Хотя можно и реактивный организовать, подавая активный газ прямо в камеру...

Изменено пользователем ev_berlin

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
2 часа назад, khach сказал:

А, понятно, я не понял какие ионы имеются ввиду. Распыление мишени ионами инертного газа? Так при этом вроде  молекулы с источника материала для напыления слишком "холодные" летят- слой аморфный выходит

Атомы с мишени летят с энергией 12-20 е.В. не такие уж и холодные. И покрытие вполне структурированное. Можно добавить ассистирование. Но и без него многое хорошо получается. 

А главное, материал мишени совершенно любой. Магнитный, диэлектрический, полупроводник...

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
2 часа назад, ev_berlin сказал:

А главное, материал мишени совершенно любой. Магнитный, диэлектрический, полупроводник...

Только коэфициеннт использования мишени оставляет желать лучшего. К сожалению..

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
2 часа назад, ev_berlin сказал:

Ионный источник распыляет ВСЕ, что попадает ему под луч. И если у вас есть такой источник, с диаметром кольцевого луча 25 мм и током 200 ма при 5 кВ -

Ионного источника нет, но есть электронная пушка с подобными параметрами по питанию. Но электронная пушка только для металлов работает.   Имеет ли смысл думать в сторону ионного источника?

В другой установке есть РЧ магнетрон, но мы им только учимся работать.

4 часа назад, Alleus сказал:

В общем, проволока термопарная натягивалась на рамку. Напыление производилось с планарного ВЧ магнетрона. Мишень кремниевая, газ аргон с кислородом. Напылялось несколько сот микрон или около того. Потом рамка переворачивалась и напыляли с другой стороны.

Спасибо, будем думать. А несколько сот микрон не трескалось потом и не отваливалось? Что то толстовато.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
7 часов назад, khach сказал:

Спасибо, будем думать. А несколько сот микрон не трескалось потом и не отваливалось? Что то толстовато.

Во первых, я повторюсь: это никто толком не измерял.

Во вторых, по моему, до полу микрона проблем не должно быть никаких.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
8 часов назад, khach сказал:

Но электронная пушка только для металлов работает. 

Не только. Проводник это не значит, что это именно металл. При нагреве все оксиды и пр. начинают проводить.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Электронный луч расплавляет, ионный распыляет.

9 часов назад, khach сказал:

Ионного источника нет, но есть электронная пушка с подобными параметрами

 

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
40 минут назад, Henadzy сказал:

Электронный луч расплавляет

Термическое испарение, с большой скоростью..

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
10 часов назад, Vladimir Savenko сказал:

Только коэфициеннт использования мишени оставляет желать лучшего. К сожалению.

А двигать мишень распыляемую религия не позволяет? Для линейного ИИ - трубчатую, для круглого кольцевого - дисковую. Мишень без потенциала, часто и без охлаждения. Не вижу больших трудностей.:classic_rolleyes:

10 часов назад, khach сказал:

Спасибо, будем думать. А несколько сот микрон не трескалось потом и не отваливалось? Что то толстовато

Диэлектрик на проволоку лучше осаждать PECVD.  Быстрее и параметры диэлектрического слоя проще подобрать. Скорости там могут быт микрон в минуту и выше. А прекурсоров может быть ТЭОС или ГМДС. Разряд инициирующий лучше ВЧ. И на форвакууме осаждать.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
9 часов назад, Alleus сказал:

Во вторых, по моему, до полу микрона проблем не должно быть никаких.

Так примерно столько и хотел -пару микрон , а вы наприсали про несколько сотен микрон, отсюда и вопрос.  Или столько надо пылить на датчик чтобы хотя бы пара микрон села на провод?

6 часов назад, ev_berlin сказал:

Диэлектрик на проволоку лучше осаждать PECVD

Для PECVD температуру подложки надо точно деражть, а для проволоки тонкой это проблематично. Ну и где взять тетраэтоксисилан в небольших количествах непонятно.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
44 минуты назад, khach сказал:

Так примерно столько и хотел -пару микрон , а вы наприсали про несколько сотен микрон, отсюда и вопрос.  Или столько надо пылить на датчик чтобы хотя бы пара микрон села на провод?

Ой. Я опечатался. Нанометров, конечно. Несколько сот нанометров.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
1 час назад, khach сказал:

PECVD температуру подложки надо точно деражть, а для проволоки тонкой это проблематично. Ну и где взять тетраэтоксисилан в небольших количествах непонятно.

Первое. ТЭОС совсем не дефицит. Как и ГМДС.

Второе.  Температуру при PECVD держать точно совершенно не нужно. Это же плазменно- стимулированный процесс. 

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
5 часов назад, ev_berlin сказал:

Температуру при PECVD держать точно совершенно не нужно. Это же плазменно- стимулированный процесс. 

Вроде ТЭОС удалось найти, теперь к нему бульбулятор надо с натекателем. А по поводу PECVD - это если я возьму кварцевую или даже стеклянную трубу, натяну внутри свою проволоку, откачаю и напущу реактивный газ, засуну трубу  в РЧ антенну, зажгу плазму  и пройдусь вдоль трубы то проволока покроется изолирующим слоем. И ни камера большая не нужна, ни моталка, т.к мне достаточно покрыть пару метров и не обязательно одним куском. Интересно выглядит.

 

6 часов назад, Alleus сказал:

Ой. Я опечатался. Нанометров, конечно. Несколько сот нанометров.

Ок, теперь понятно стало, спасибо.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
3 часа назад, khach сказал:

реактивный газ, засуну трубу  в РЧ антенну, зажгу плазму  и пройдусь вдоль трубы то проволока покроется изолирующим слоем. И ни камера большая не нужна, ни моталка, т.к мне достаточно покрыть пару метров и не обязательно одним куском. Интересно выглядит

Примерно так. Проволоку лучше перематывать, разряд локализовать в одном месте магнитным полем, и подачу газа туда...иначе стенки тоже покроете, а у них площадь большая! 

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Для публикации сообщений создайте учётную запись или авторизуйтесь

Вы должны быть пользователем, чтобы оставить комментарий

Создать учетную запись

Зарегистрируйте новую учётную запись в нашем сообществе. Это очень просто!

Регистрация нового пользователя

Войти

Уже есть аккаунт? Войти в систему.

Войти

  • Последние посетители   0 пользователей онлайн

    Ни одного зарегистрированного пользователя не просматривает данную страницу

×
×
  • Создать...

Важная информация

Мы разместили cookie-файлы на ваше устройство, чтобы помочь сделать этот сайт лучше. Вы можете изменить свои настройки cookie-файлов, или продолжить без изменения настроек.