Перейти к содержанию
Consta

Ищу статью о нанесении покрытия на "холодную" (до 200 град) подложку

Рекомендуемые сообщения

Дата: (изменено)

Коллеги!

Может у кого есть статья или ссылка на работу, кажется, харьковчан о нанесении покрытия на "холодную" (до 200 град) подложку.

Спасибо!

Изменено пользователем Consta

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

novihok_,

Большое спасибо!

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

КарАл, Спасибо!

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

подложка металлическая?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

На самом деле в Харьковской статье туфта полная. Эти высоковольтные импульсы греют подложку пропорционально напряжению.

Хорошо хоть не квадрату напряжения, потому что плазма не есть активное сопротивление.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

<b>mirs</b>,

С точки зрения электронного тока - почти активное, до плазменной частоты, а она там большая.

Электронный ток отзывается на напряжение без запаздывания, и ограничен катодным кризисом, которого в паре с дугой можно и не увидеть.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
Дата: (изменено)

С точки зрения электронного тока - почти активное, до плазменной частоты, а она там большая.

Тут эта..Дуговой процесс.

Если бы было активное, то при увеличении напряжении на столе в два раза, ток возрастал бы в два раза.

А здесь при увеличении напряжения в два раза ( или в 10 раз) ток не изменяется. Если конечно в дугу не срывается.

В теорию можно носом не опускать, проверено практикой многократно. Возмможен рост тока при увеличении напряжения, но это несколько процентов..Именно поэтому мощность пропорциональна U а не U2.

Изменено пользователем mirs

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Электронный ток отзывается на напряжение без запаздывания, и ограничен катодным кризисом, которого в паре с дугой можно и не увидеть.

Поскольку на подложку подано постоянное отрицательное напряжение, практически разрывающее плазму, то наложение на него высоковольтных отрицательных импульсов практически не влияет на электронный ток (если автоэлектронной эмиссией пренебречь). Таким образом, налагаемые импульсы повысят энергию ионов пропорционально напряжению, как справедливо упомянул mirs.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

сделаю и я свой вклад в развитие данной темы: https://dl.dropboxusercontent.com/u/1622498/CHIP/2014-11-09/0921-5093%2891%2990521-N.pdf

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

сделаю и я свой вклад

И чё? 1991 год. Одын в одын харьковская статья.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
Дата: (изменено)

Институт Fraunhofer тоже туфту полную пишет?

Изменено пользователем neon

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Институт Fraunhofer тоже туфту полную пишет?

Харьковчане это читали до написания своей статьи или нет?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
Дата: (изменено)

это у них надо спрашивать, а не у меня. Вот ещё одна статья, которая должна поставить точку в данной дискуссии или наоборот, явиться катализатором бурных дебатов: https://dl.dropboxus...2004.08.123.pdf

 

Лично я не согласен с mirs насчёт тока относительно импульсного напряжения смещения.

Изменено пользователем neon

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

<b>neon</b>,

Mirs, конечно прав. Ток насыщения имеет место быть, и с этим спорить не надо. Каюсь, я имел в виду другую работу харьковчан, в которой импульсы были "положительными"! А там результаты тоже были любопытными. Вполне себе хорошие результаты, даже получение сверхтвердых вариантов структуры нитрида титана.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Ион - это механическая частица с определенной массой, которая ударяется о поверхность со скоростья V. Энергия mV^2/2 тратится на распыление или чистку поверхности (малая часть) а основная - на нагрев поверхности (тепловой клин).

Высоковольтный импульс создает поток высокоэнергетичных частиц, разогревающие тонкий приповерхностный слой. Чем выше энергия, тем неравновесней процесс - при "холодном" объеме "горячая" поверхность. Магнетрон имеет КПД 5-7%, остальное - в воду. Поверхность мишени HIPIMS - вплоть до оплавления водоохлаждаемой мишени.

Вопрос - какой толщины образец, как, чем и где измеряют температуру? Время обработки?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Вопрос - какой толщины образец, как, чем и где измеряют температуру? Время обработки?

Да-да. напылить на полированный паяный оловянный шов .

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

<b>Consta</b>, ты абсолютно прав. Только при положительных импульсах разогрев поверхности идет без распыления, а мгновенная температура поверхности может быть и выше, поскольку электронный ток из плазмы существенно выше ионного, а время импульса для того же воздействия меньше.

 

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Высоковольтный импульс создает поток высокоэнергетичных частиц, разогревающие тонкий приповерхностный слой. Чем выше энергия, тем неравновесней процесс - при "холодном" объеме "горячая" поверхность

Вообще-то для того чтоб получить износостойкое покрытие 3-5мкм нужно никак не меньше 10-15мин, а за это время за счет теплопроводности неравновесный процесс уравновесится равно как и температура объёма и поверхности. И вообще, ИМХО, реализацию низкотемпературной технологии надо начинать с оценки тепловых процессов на подложке, исходя из энергобаланса, в условиях именно равновесного процесса. А эта оценка показывает, что нужно не повышать поток энергии, падающей на подложку, а по возможности снижать его.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

А эта оценка показывает, что нужно не повышать поток энергии, падающей на подложку, а по возможности снижать его.

Да-да. А то импульсы киловольтные..

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

<b>КарАл</b>,

В том то и дело, с этими импульсами, что расчет идет на "мгновенную" температуру поверхности в момент импульса, а не на равновесную температуру детали. И чем короче импульс, тем больше разница.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

что расчет идет на "мгновенную" температуру поверхности в момент импульса

А в паузах?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

<b>mirs</b>,

А в паузах температура детали равновесная, и поверхность тоже быстро порядка микросекунд, принимает эту же температуру.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

и поверхность тоже быстро порядка микросекунд, принимает эту же температуру.

Подогреется от импульса, от каждого.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Для публикации сообщений создайте учётную запись или авторизуйтесь

Вы должны быть пользователем, чтобы оставить комментарий

Создать учетную запись

Зарегистрируйте новую учётную запись в нашем сообществе. Это очень просто!

Регистрация нового пользователя

Войти

Уже есть аккаунт? Войти в систему.

Войти

  • Последние посетители   0 пользователей онлайн

    Ни одного зарегистрированного пользователя не просматривает данную страницу


×
×
  • Создать...

Важная информация

Мы разместили cookie-файлы на ваше устройство, чтобы помочь сделать этот сайт лучше. Вы можете изменить свои настройки cookie-файлов, или продолжить без изменения настроек.